フォトレジストとは
基板にフォトレジストの薄膜を形成し、露光現像して微細なパターンをつくるものである
フォトレジストの種類は大きく2つにわかれ
○露光した部分がパターンとして残るネガ型
○露光した部分が除去されるポジ型
使用するフォトレジストにより薄膜形成や露光の条件も変わり、生産難度も変わってくる
生産性向上、コスト削減の観点からフォトレジストを大量消費するスピン方式よりも現在は使用する液量を少なくした方式が実用化されている
主な、フォトレジスト企業
東京応化工業(TOK)、AZエレクトロニックマテリアル、JSRなどが挙げられる
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