フォトマスク
フォトマスクとは、カラーフィルター工程の中の露光工程で使用されるものであり基板にパターンを焼き付ける原版である。
感光性樹脂（レジスト）を塗布したガラス基板を露光する時に使用する
フォトマスクに形成されているパターン部のみが露光され、現像、エッチングすることによりガラス基板にパターンを形成することができる
微細な転写が可能であり、FPD業界以外に半導体などにも多く使われている
パターンが形成されている原版がフォトマスクであり、パターンが形成される前の原版がフォトマスクブランクスと言う
フォトマスク大手主要企業は、DNP（大日本印刷）、凸版印刷、HOYAなどがある。
露光工程で光を照射する時、フォトマスクを使用することで光の当たる部分と当たらない部分がでてくる
光の当たる（当たらない）部分だけをパターンとして残すためフォトマスクが使用される
フォトマスクのパターンがそのまま転写される形になる。
感光性樹脂（レジスト）を塗布したガラス基板を露光する時に使用する
フォトマスクに形成されているパターン部のみが露光され、現像、エッチングすることによりガラス基板にパターンを形成することができる
微細な転写が可能であり、FPD業界以外に半導体などにも多く使われている
パターンが形成されている原版がフォトマスクであり、パターンが形成される前の原版がフォトマスクブランクスと言う
フォトマスク大手主要企業は、DNP（大日本印刷）、凸版印刷、HOYAなどがある。
露光工程で光を照射する時、フォトマスクを使用することで光の当たる部分と当たらない部分がでてくる
光の当たる（当たらない）部分だけをパターンとして残すためフォトマスクが使用される
フォトマスクのパターンがそのまま転写される形になる。
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